ITO激光刻蚀技术

ITO薄膜是指铟锡氧化物的半导体透明导电薄膜，通常在将ITO薄膜镀在有机薄膜PET、玻璃和硬性塑料基板上，厚度只有几千埃（300-500nm）。在这些材料商镀铟锡氧化物的电阻率极低、可见光高透过率以及紫外光高发射率的优质特性，被广泛应用到消费电子领域的触摸屏行业中。

镀有ITO薄膜的基材刻线后由上下层线路组合，各自布线X轴与Y轴，两层线路中间由极小的绝缘点作为隔层，经组装贴合后，对上方导电膜施以压力，造成上下X轴与Y轴短路，因而改变其电压值且产生信号，再经由控制器计算受压之处相对坐标位置，此便是ITO触摸屏的使用。

那么如何在这种ITO薄膜上进行加工刻线呢？传统的ITO刻线采用的是化学试剂刻蚀，这种方法逐渐被淘汰，主要是其废品率高，成本高。慢慢开始偏向于成本低、无污染、易操作、良品率高的激光刻蚀技术。

激光刻蚀的原理是通过调节高能激光束的焦点位置，使直接作用于ITO薄膜层，使得ITO层瞬间气化，从而达到蚀刻的效果，同时由于激光能量的可调性质，这就使得在加工过程中不会对底部的衬底材料造成影响。这种方式相比较于化学试剂刻蚀体积更加小巧、易操作、成本低、良品率高。

通过电脑软件控制，导入绘制好的ITO线路层的图形即绘制激光蚀刻图档，上料后，调整好参数，即可对其进行加工，并对其进行检测，保存好设置的参数，即可进行批量加工，同批次的产品无需再次调整参数既可实现批量的生产，大大提高的工作效率和良品率。

随着技术的发展，在触摸屏ITO行业中的精度要求越来越高，集成化也越来越高端，传统的刻线方式已渐渐无法满足要求，而新型的激光刻蚀方式已逐渐成为主流，其精度在工业应用中已能达到15μm， 已成为行业中的主力军。